mask cleaner3
设备名称
Lift-off, Scrubber设备
Wafer size:2-12英寸
衬底类型:硅片,或者掩膜版,MASK
清洗方式:高压水,溶液剂,铁氟龙刷
传送方式:可全自动,可半自动
适合工艺:Lift-off, Scrubber
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设备介绍
Scrubber,右名刷片机,对Wafer或者掩膜版进行清洗,相较于超声波水槽清洗,更能清洗有附着力的污染物,高压DI水可以用达到5000psi,配合特氟龙刷,可以保证表明完全清洁。
设备参数
PRODUCT NAME
设备名称 Lift-off, Scrubber
适用对象 蓝宝石,硅片,掩膜版,切好的wafer
可实现平台 150/200CRS , 150RRE , 150RE/BE, SVG88/86
spin motor Servo motor
可用溶剂 NMP,丙酮,EBR
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