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设备名称
Stand Alone TRACK
Wafer size:2-12英寸
衬底形状:各种形状
控制方式:手动放取衬底,工艺过程全自动
适合类型:高校,研究所,小批量高要求生产
相对于其他实验室匀胶显影机优点:同全自动设备工艺参数一致
平台:RRE平台

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设备介绍
采用RRE平台开发的半自动设备,上下片手动,对准以及工艺过程全自动,同生产型设备完全一样的配置,实现高质量高可靠性和高重复性的实验,被全世界各大著名研究所采用。
设备参数
PRODUCT NAME
设备名称 半自动匀胶显影机/Stand Alone Track
控制方式 PLC+PC
程序数 无限制
程序步骤数 标准50步,可无限制
可选工艺 匀胶,显影,热板,冷却板,VPC,Scrubber, 
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