设备名称
Stand Alone TRACK
Wafer size：2-12英寸
衬底形状：各种形状
衬底形状：各种形状
控制方式：手动放取衬底，工艺过程全自动
适合类型：高校，研究所，小批量高要求生产
相对于其他实验室匀胶显影机优点：同全自动设备工艺参数一致
平台：RRE平台
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设备介绍
采用RRE平台开发的半自动设备，上下片手动，对准以及工艺过程全自动，同生产型设备完全一样的配置，实现高质量高可靠性和高重复性的实验，被全世界各大著名研究所采用。
设备参数
PRODUCT NAME
| 设备名称 | 半自动匀胶显影机/Stand Alone Track |
| 控制方式 | PLC+PC |
| 程序数 | 无限制 |
| 程序步骤数 | 标准50步，可无限制 |
| 可选工艺 | 匀胶，显影，热板，冷却板，VPC，Scrubber, |
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