PCT-150CRS (1) _62891
设备名称
PCT-150/200CRS
Wafer size:2-8英寸
衬底形状:圆形,方形
衬底类型 : Si, Sapphire, SiC, GaN, Glass, GaAs and so on
衬底厚度:100um-3mm
适用光阻粘稠度:1-30000cps
适用显影工艺:正胶,负胶

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产品介绍
PCT-150/200CRS是PicoTrack最新的产品,采用自己研发的中心手臂,适用于大多数光刻工艺,包括正胶,负胶,Polymide,PIX工艺,可选配VPC,FFU,CCR,显影液温控和SEM/SECS,可实现与Canon stepper或PE光刻机inline
设备参数
PCT-150/200CRS
设备名称 PCT-150/200CRS
Spin motor servo motor up to 7000rpm,acc up to 30000rpm/s,speed accuracy:±2rpm     可升级至重型servo motor
Configuration dual central arm. up to 2C2D , 4C or 4D ,max 16HPO,
opions VPC,FFU,CCR,DEV /PR TEMP CONTROL,SEM/SECS
适用工艺 正胶,负胶,Polymid,PIX,Glass powder,
设备图片