设备名称
PCT-150/200CRS
Wafer size：2-8英寸
衬底形状：圆形，方形
衬底形状：圆形，方形
衬底类型 : Si, Sapphire, SiC, GaN, Glass, GaAs and so on
衬底厚度：100um-3mm
适用光阻粘稠度：1-30000cps
适用显影工艺：正胶，负胶
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产品介绍
PCT-150/200CRS是PicoTrack最新的产品，采用自己研发的中心手臂，适用于大多数光刻工艺，包括正胶，负胶，Polymide，PIX工艺，可选配VPC，FFU，CCR，显影液温控和SEM/SECS，可实现与Canon stepper或PE光刻机inline
设备参数
PCT-150/200CRS
| 设备名称 | PCT-150/200CRS |
| Spin motor | servo motor up to 7000rpm,acc up to 30000rpm/s,speed accuracy:±2rpm 可升级至重型servo motor |
| Configuration | dual central arm. up to 2C2D , 4C or 4D ,max 16HPO, |
| opions | VPC,FFU,CCR,DEV /PR TEMP CONTROL,SEM/SECS |
| 适用工艺 | 正胶，负胶，Polymid,PIX,Glass powder, |
设备图片
