IMG-20170206-WA0000

Perkin Elmer光刻机

Wafer size:4-6英寸
适用工艺线宽:大于2um
产能:up to 100w/h
对准方式:全自动,带AFA, AIM
翻新:全翻新
测试:发货前开机测试


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设备介绍
Perkin Elmer光刻机作为上世纪80年代最先进的光刻机,采用整片扫描式曝光,在国内外被广泛应用于功率器件芯片的生产。
设备参数
PRODUCT NAME
设备名称 Perkin Elmer 光刻机
Depth of Focus ± 6 Microns for 1.5 Micron Wide Lines
& Spaces (UV-4)
Distortion Plus Magnification ± 0.25 Micron
Alignment ± 0.25 Micron, 98% of data
population
Throughput >100 Wafers per hour(UV-4, OEM Spec.)
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