设备介绍
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Perkin Elmer光刻机作为上世纪80年代最先进的光刻机,采用整片扫描式曝光,在国内外被广泛应用于功率器件芯片的生产。
设备参数
PRODUCT NAME
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设备名称 | Perkin Elmer 光刻机 |
Depth of Focus | ± 6 Microns for 1.5 Micron Wide Lines
& Spaces (UV-4) |
Distortion Plus Magnification | ± 0.25 Micron |
Alignment | ± 0.25 Micron, 98% of data
population |
Throughput | >100 Wafers per hour(UV-4, OEM Spec.) |
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