Perkin Elmer光刻机
Perkin Elmer光刻机
Wafer size：4-6英寸
适用工艺线宽：大于2um
适用工艺线宽：大于2um
产能：up to 100w/h
对准方式：全自动，带AFA, AIM
翻新：全翻新
测试：发货前开机测试
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设备介绍
Perkin Elmer光刻机作为上世纪80年代最先进的光刻机，采用整片扫描式曝光，在国内外被广泛应用于功率器件芯片的生产。
设备参数
PRODUCT NAME
| 设备名称 | Perkin Elmer 光刻机 |
| Depth of Focus | ± 6 Microns for 1.5 Micron Wide Lines
& Spaces (UV-4) |
| Distortion Plus Magnification | ± 0.25 Micron |
| Alignment | ± 0.25 Micron, 98% of data
population |
| Throughput | >100 Wafers per hour(UV-4, OEM Spec.) |
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